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泓域咨询 / 光刻机项目申请报告
光刻机项目
申请报告
xxx有限公司
报告说明
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备,也是光刻胶材料研发的重要设备,根据晶瑞电材的集成电路制造用高端光刻胶研发项目信息,设备及安装费占总投资额的69%,而光刻机就占设备及安装费的44%。
根据谨慎财务估算,项目总投资30518.39万元,其中:建设投资25002.32万元,占项目总投资的81.93%;建设期利息634.56万元,占项目总投资的2.08%;流动资金4881.51万元,占项目总投资的16.00%。
项目正常运营每年营业收入53000.00万元,综合总成本费用
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