负性光刻胶产业园项目招商方案_参考模板.docx

泓域咨询/负性光刻胶产业园项目招商方案  负性光刻胶产业园项目 招商方案 xx集团有限公司  报告说明 19世纪50年代末，仙童（Fairchild）半导体公司发明了基于掩膜版的曝光和刻蚀技术，极大地推动了半导体技术革命，该技术也一直沿用至今。1965年，时任仙童半导体公司研究开发实验室主任的戈登?摩尔（Gordon?Moore）在《电子学》（《Electronics》）上发表了题为《让集成电路填满更多的元件》（《CrammingMoreComponentsOntoIntergratedCircuits》）的文章，并首次提出了被后世奉为“计算机第一定律”的经验性规律——摩尔定律：当价格不