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例题:一维周期势场中电子的波函数应当满足布洛赫定理。如果晶格常数为a,电子波函数为
求电子在这些态中的波矢
例题
1 在一个电子能带图中,较高能量状态中的电子具有较大的能量;而对于空穴的能量是由上到下( )。
A.递减; B.递增;C.不变
2 与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量( )
A. 比半导体的大 B. 比半导体的小 C. 与半导体的相等
B
A
例题
3 E~k曲线表示了两种可能导带结构,说明其中哪一种对应电子有效质量较大。为什么?
例 题
施主杂质电离后向半导体提供( ),受主杂质电离后向半导体提供( ),本征激发向半导体提供( )
A. 空穴 B. 电子
B
A
A、B
例题
室温下,半导体Si掺硼的浓度为1014cm-3,同时掺有浓度为1×1015cm-3的磷,则电子浓度约为( ),空穴浓度为( ),费米能级( );将该半导体升温至570K,则多子浓度约为( ),少子浓度为( ),费米能级( )。(已知:室温下,ni≈1.5×1010cm-3,570K时,ni≈2×1017cm-3)
A. 1014cm-3 B. 1015cm-3 C. 1.1×1015cm-3
D. 2.25×105cm-3 E. 1.2×1015cm-3 F. 2×1017cm-3
G. 高于Ei H. 低于Ei I. 等于Ei
B
D
G
F
F
I
例题
有两块半导体材料,已知室温下硅材料的空穴浓度为p1=1×1018/cm3,锗材料的空穴浓度p2=2×106/cm3,计算它们的电子浓度和EF值(室温下,硅:Eg=1.12eV ni=1.3×1010/cm3;锗:Eg=0.67eV ni=2.1×1013/cm3)
例题
已知室温时本征锗的ni=2.1×1013cm-3,(1)若均匀地掺入百万分之一的硼原子,分别计算掺杂锗室温时的多子浓度和少子浓度以及EF的位置?(2)若在(1)的基础上又同时均匀地掺入1.442×1017cm-3的砷原子,分别计算锗室温时的多子浓度和少子浓度以及EF的位置?(NV=5.7×1018cm-3,原子浓度4.42×1022cm-3,NC= 1.05×1019cm-3)(3)在(2)的情况下,将锗的温度升高到600K时,分别计算锗的多子浓度、少子浓度以及EF的位置?
例题
设半导体材料硅中掺入受主浓度NA=5×1016cm-3,施主浓度ND=2×1017cm-3,室温时本征电阻率为2400Ω·m,μn=1000cm2/(V·s);μp=300cm2/(V·s)(且迁移率数值不随杂质浓度变化)。若样品所加电场为3V/cm,求样品的电导率和通过材料的电流密度。
0.5kg的锗单晶,掺有5×10-8kg的锑,设杂质全部电离,试求该材料的电阻率(设μn=0.39m2/(V·s)。锗单晶的密度为5.32g/cm3,锑原子量为122,室温下锗的本征载流子浓度ni=2.1×1013cm-3)。
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