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RENA 清洗设备中的工艺InTex InOxSide 太阳能电池概述 太阳能电池是一种有效地吸收太阳能辐射并使之转化成电能的半导体器件 应用材料为 单晶硅，多晶硅，薄膜材料 生产太阳能电池流程 基本流程: 腐蚀绒面 POCl3-参杂/扩散 腐蚀表面扩散层 切边 丝网印刷 Ag 丝网印刷 Al/Ag 丝网印刷 Ag 烧结 PECVD SiNx 蒸镀 硅片清洗 硅片清洗PreWaClean InWaClean PreWaClean 槽式清洗 清洗硅片切割后残留的锯削 清洗方式分别为: 水洗和酸洗 InWaClean 分片清洗 进一步清洗硅片间的残留杂质 清洗方式分别为: 水洗， 超声波清洗和酸洗 腐蚀绒面InTex 降低表面反射，提高光电转换效率 浓度: HF 49%， HNO3 71% 温度: 6 – 8 oC (chiller) 时间: 2 分钟 清洗: 水洗: DI – H2O 20 oC 碱洗: KOH / NaOH 5% , 20 oC , 0.5 分钟 酸洗: HF 5% , 20 oC , 1 分钟 切边InOxSide 切除硅片边缘过多的参杂部分。激光切边，等离子切边，腐蚀切边 腐蚀溶液: HNO3 71% , HF 49% , H2SO4 98% 温度: 6 – 8 oC 时间: 1.5 – 2 分钟 清洗: 水洗: DI – H2O 碱洗: KOH 5% ，20 oC 酸洗: HF 5% ， 20 oC 腐蚀表面扩散层InOx 酸液腐蚀: HF 5% - 7%，2 min 10 - 20 oC 清洗: 水洗 DI – H2O，6 min 20 oC SCHMID大致构造： 上 片 （喷 水） 刻蚀槽 HNO3/ HF 水 喷 淋 碱洗槽 NaOH 水 喷 淋 去PSG槽 HF 水 喷 淋 下 片 吹 干 风 刀 1.“一化一水”，硅片每经过一次化学品，都会经过一次水喷淋清洗。 2.除刻蚀槽和第一道水喷淋之间用吹液风刀外，其他槽与槽之间的液体隔绝使用的是 海绵滚轮。 3.化学槽均采用的是浸泡结构，水冲洗采用的是喷淋结构。 4.不同于RENA的阀门控制，SCHMID的风刀风量采用数字控制，并且带一定温度。 整个设备按模组分为8个： 传送滚轮 注意：每道滚轮的顺序位置都有严格的规定，不能随意调换，切记！ 滚轮共有三种： 海绵滚轮 毛吸滚轮 活动滚轮 注：一洗无 传入感应器及喷淋 传入感应器功能：感应硅片，并且计数。在M01的参数设置里可以设置叠片的报警数量，以及定义硅片最大长度。 传入感应器 喷淋 喷淋功能（二洗专有）：在表面喷水膜，一是稀释底部跑上来的酸，一是阻挡空气中的酸气，腐蚀N型层。 Delay valve231 track： 定义感应器和喷水口的距离 Shorten valve231 track：定义喷水停止时的硅片长度。 排风 除了MO2有两个排风管道，M02-M07每个模组均有一个排风管道。M02模组和M06模组的排风管道还有风速感应器，如果排风较小，则设备会报警，过小，则会报警并自动停机。 主排风感应 侧排风感应 在此感应模块有两盏灯，绿灯为显示值，正常为绿灯在第三格，如果绿灯在红灯以下，则设备开始报警。 注：排风量是由外围来控制，设备控制不了。如果排风过低，应及时联系外围工程师。 * * * * * * * * * * * * * *