一种MOCVD装置.pdfVIP

下载本文档

2
0
约5.53千字
约 6页
2023-02-05 发布于四川
举报
版权申诉

一种MOCVD装置.pdf

1、本文档共6页，其中可免费阅读3页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本实用新型公开一种MOCVD装置，包括反应腔，反应腔上有密封用的顶盖，顶盖包括相对的内侧表面和外侧表面，内侧表面朝向反应腔的腔体内部空间，其特征在于：MOCVD还包括一个保护罩，保护罩用于罩住顶盖的内侧表面。所述MOCVD顶盖上部包括三种管道，在MOCVD机台拆炉维护过程中，所述三种管道可外接至N2管道中，对顶盖进行持续吹扫。本实用新型提出的MOCVD装置通过保护罩和外接N2吹扫，可减少拆炉过程中顶盖长时间暴露在水氧环境中，减少顶盖内部残留MO源与水氧的反应时长；加快复机速度，提高产能；同时减少

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212357457 U (45)授权公告日 2021.01.15 (21)申请号 202020891046.8 (22)申请日 2020.05.25 (73)专利权人厦门三安光电有限公司