一种耐划伤高透过的ITO透明导电膜.pdfVIP

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2023-02-08 发布于四川
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一种耐划伤高透过的ITO透明导电膜.pdf

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本实用新型公开了一种耐划伤高透过的ITO透明导电膜，包括由下往上层叠设置的加硬层、第二底涂层、基材层、第一底涂层、高折射率加硬层、二氧化硅耐磨层和氧化铟锡层，所述氧化铟锡层的厚度为15‑65nm；所述二氧化硅耐磨层的厚度为5‑25nm，折射率为1.43‑1.58，所述高折射率加硬层的厚度为0.3‑3μm，折射率为1.62‑1.67，在涂敷到高折射率加硬层和氧化铟锡层之间增加了二氧化硅耐磨层，能够有效提升ITO导电膜表面的硬度，使ITO导电膜在生产过程中，其表面更具有耐磨性，不容易被划伤。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212392009 U (45)授权公告日 2021.01.22 (21)申请号 202021731302.3 (22)申请日 2020.08.19 (73)专利权人浙江日久新材料科技有限公司