一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架.pdfVIP

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2023-02-12 发布于四川
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一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架.pdf

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本实用新型公开一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架，包括腔体，腔体的顶面上插接有气管，腔体的底面上固定有支架，腔体内设有相互垂直的两条气路，两条气路位于同一平面上，两条气路连通，气管伸入腔体连通两条气路的连接处，气路的两端分别插接在腔体上对称的两个侧壁上，腔体的侧壁上开设有衬底卡槽，衬底卡槽的底壁上开设有密封槽，密封槽内嵌设有密封垫，气路的端部贯穿密封垫，本实用新型一可以使衬底悬于悬浊液中，二可提高衬底每部分处理的均匀性，还可根据需要选择最佳的处理角度，在处理衬底的数量上有很大的提高，因

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212451631 U (45)授权公告日 2021.02.02 (21)申请号 202021282213.5 C23C 14/02 (2006.01)