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本实用新型涉及晶圆激光切割用的产品吸附装置,载台底座上开设有凹腔,照明光源安装于凹腔内,透明吸附载台置于载台底座上,透明吸附载台的外径上部设有台阶,透明吸附载台的外围配置有环形载台压块,上部具有与台阶相配的台肩,台肩压住台阶,通过螺丝将载台压块与载台底座连接,将透明吸附载台压住固定;透明吸附载台的外径与载台压块的内径间间隙形成环形气腔,载台压块上开设与环形气腔连通的气道,载台压块与吸附载台的压合面上开设与环形气腔连通的导气槽,透明吸附载台上表面分布有与环形气腔连通的吸附槽;载台压块的下端内孔设有
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212443806 U
(45)授权公告日 2021.02.02
(21)申请号 202021775636.0 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(22)申请日 2020
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