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本实用新型涉及电弧离子镀技术领域,特别涉及一种电弧离子镀膜装置。本实用新型的电弧离子镀膜装置,包括:基体支架,用于支撑基体;电弧源,包括阴极靶,阴极靶用于释放等离子体,以为基体镀膜;和辅助阳极,设置于阴极靶与基体支架之间,辅助阳极内设有允许阴极靶所释放等离子体通过的通道,且辅助阳极与阴极靶之间形成电场,辅助阳极和阴极靶分别与电源的正极和负极电连接。基于此,可减少大颗粒在膜层上的沉积,从而有效改善膜层质量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212476868 U
(45)授权公告日 2021.02.05
(21)申请号 202021927238.6
(22)申请日 2020.09.04
(73)专利权人 江苏徐工工程机械研究院有限公
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