助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统.pdfVIP

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2023-02-21 发布于四川
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助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统.pdf

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本实用新型公开了一种助熔剂法生长均匀的氮化物单晶的系统。所述系统包括：单晶生长单元、原料循环单元、搅拌单元和氮气供给单元；所述单晶生长单元包括可供反应生长氮化物单晶的反应腔室，所述原料循环单元包括用以容置生长氮化物单晶所需原料的循环腔室，所述反应腔室与所述循环腔室相互连通，且所述原料能够在所述反应腔室与循环腔室之间循环流动；所述搅拌单元至少用以对所述循环腔室和/或反应腔室内的原料进行搅拌；所述氮气供给单元至少用以向所述循环腔室和/或反应腔室内提供氮气。本实用新型利用原料循环单元以及搅拌单元对反应

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212713847 U (45)授权公告日 2021.03.16 (21)申请号 202022055337.6 (22)申请日 2020.09.18 (73)专利权人中国科学院苏州纳米技术与纳米