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本实用新型公开了一种快速均匀化CVI致密坩埚的装置,包括炉体,所述炉体底部固定设有天然气孔,所述炉体内设有石墨筒,所述天然气孔与石墨筒相通设置,所述石墨筒内从下到上依次设有三个筛板和三个坩埚,两个筛板之间设有一个坩埚,所述筛板顶面边缘处设有多个第一垫块,所述第一垫块上设有坩埚,所述筛板顶面中心处设有第二垫块,所述第二垫块顶面设有挡气板,所述挡气板设置在坩埚内。本实用新型可以避免坩埚直接接触,加大坩埚之间缝隙,让天然气向坩埚外部流通,保证坩埚内外均匀沉积,增加产品沉积密度均匀性,提升产品品质,提高
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212834136 U
(45)授权公告日 2021.03.30
(21)申请号 202021092472.1
(22)申请日 2020.06.12
(73)专利权人 内蒙古中晶科技研究院有限公司
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