一种超声波干式半导体晶片、液晶面板清洗头.pdfVIP

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2023-02-24 发布于四川
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一种超声波干式半导体晶片、液晶面板清洗头.pdf

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本实用新型涉及一种超声波干式半导体晶片、液晶面板清洗头，包括超声波清洗机以及设于所述超声波清洗机上的X轴送料机构和清洗机构，所述清洗机构包括：横跨于所述X轴送料机构的机架组件，所述机架组件包括横梁以及设于所述横梁两侧的机架；设于所述横梁下方、并用于清洗半导体晶片、液晶面板的超声波清洗头；设于所述超声波清洗头两侧、并用于所述超声波清洗头竖直移动的滑台，所述滑台与所述机架上竖直设置的直线导轨连接。本申请由X轴送料机构将待清洗的半导体晶片、液晶面板送入到清洗机构的下方，由驱动组件驱动超声波清洗头移动到

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218502857 U (45)授权公告日 2023.02.21 (21)申请号 202222296355.2 (22)申请日 2022.08.31 (73)专利权人苏州光斯奥光电科技有限公司地址