一种用CVD法制备镀层的反应炉.pdfVIP

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2023-02-26 发布于四川
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一种用CVD法制备镀层的反应炉.pdf

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本实用新型公开了一种用CVD法制备镀层的反应炉，通过垂直悬挂式设置镀件，且采用气体分配室通入反应气体，还通过尾气收集室排尾气，便于间隙式供气模式，节约气体原料；本技术可对多个不同形状大小的镀件同时进行CVD反应制备镀层；而且结构简单，设备造价低，原料成本低，生产效率高；可在常压形式进行CVD反应，设备易于制造和推广使用。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212955338 U (45)授权公告日 2021.04.13 (21)申请号 202020930529.4 (22)申请日 2020.05.28 (73)专利权人广东双虹新材料科技有限公司