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本申请公开了一种半导体器件。该半导体器件包括:衬底;外延层,位于衬底上;绝缘层,位于外延层上;轻掺杂区,位于外延层中;以及导电层,位于绝缘层中,通过引线与轻掺杂区连接。该半导体器件通过设置轻掺杂区和导电层,减小了耗尽线的弯曲程度,进一步减小了耗尽线终端的弯曲程度,延长了耗尽线的长度,从而减小了场强,进而达到了提高半导体器件耐压程度的目的。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213026137 U
(45)授权公告日 2021.04.20
(21)申请号 202020690639.8
(22)申请日 2020.04.29
(73)专利权人 杭州士兰微电子股份有限公司
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