一种上釉均匀的陶瓷上釉装置.pdfVIP

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2023-03-01 发布于四川
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一种上釉均匀的陶瓷上釉装置.pdf

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本实用新型提供一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，涉及陶瓷加工技术领域，解决了一个是，现有的陶瓷上釉装置结构简单，上釉过程不够细致，容易造成陶瓷上釉不均匀的现象；再者是，现有的陶瓷上釉装置功能单一，不能够针对不同的陶瓷做出合理的调整，适用性较差的问题。一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，包括箱体；箱体内滑动连接有一条喷釉臂，且箱体内焊接有一个上釉台。首先将陶瓷放到两个支架中间，确保陶瓷与石膏台同轴，然后调整转动连接在喷釉臂上的液压杆，使喷板转动到合适位置，根据陶瓷的大小，可通过调节不同的阀门，以达到针对不同陶瓷

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213055299 U (45)授权公告日 2021.04.27 (21)申请号 202021316741.8 (22)申请日 2020.07.08 (73)专利权人广州美术学院地址