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本实用新型公开了一种用于双工位抛光机的抛光头位置调节装置,涉及抛光设备领域,包括机架,机架上设有三工位转盘,所述三工位转盘上方设有支撑板,支撑板上设有两个抛光单元,抛光单元包括驱动抛光轮转动的抛光轮驱动组件、驱动抛光轮驱动组件上下运动的上下调节组件、驱动上下调节组件前后运动的前后调节组件、承载板、驱动承载板左右运动的左右调节组件,所述前后调节组件设置于上下调节组件的远离支撑板中部的一侧。可以通过控制左右运动组件、前后运动组件和上下运动组件,可以精准调节控制抛光轮的加工位置,实现自动化抛光的效果,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213054238 U
(45)授权公告日 2021.04.27
(21)申请号 202021557185.3
(22)申请日 2020.07.31
(73)专利权人 东
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