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2023-03-01 发布于四川
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本实用新型公开了一种有源区域结构，有源区域结构包含：多个封闭图案有源区位于一衬底上，多个所述封闭图案有源区彼此之间相互接触，并组成一封闭图案，其中所述封闭图案的第一边界沿着一水平方向延伸，所述封闭图案的第二边界沿着一垂直方向延伸该有源区域结构可以阻挡外围大区域的浅沟槽绝缘层对组件区域所产生的应力，防止在组件区域的周围边区域的组件单元。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213026126 U (45)授权公告日 2021.04.20 (21)申请号 202022016048.5 (22)申请日 2020.09.15 (73)专利权人福建省晋华集成电路有限公司