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本实用新型公开了一种半导体芯片研磨装置,属于半导体芯片制造技术领域,包括工作台,所述工作台的下端两侧设置有支撑脚,所述工作台的上端一侧设置有支撑杆,所述支撑杆的上端设置有顶板,所述顶板的下端设置有滑动座,本实用新型通过设置气缸、第一电机和第二电机等,可实现打磨片通过滑动板和滑动座进行移动,可对半导体芯片指定位置进行打磨,提高了装置的实用性,满足了半导体芯片不同位置的打磨工作,本实用新型通过鼓风机与抽风机的配合,可将打磨产生的灰尘通过吸尘管吸入到集尘箱中,再通过将灰尘与集尘箱中的水进行溶解,最后通
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213054299 U
(45)授权公告日 2021.04.27
(21)申请号 202021413482.0 B24B 55/12 (2006.01)
(22)申请日 2
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