离子源及离子刻蚀设备.pdfVIP

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2023-03-05 发布于四川
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离子源及离子刻蚀设备.pdf

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本实用新型公开了一种离子源及离子刻蚀设备，包括栅栏、射频电源线圈、石英腔、气流导向结构和用于调节离子源产生的离子流密度的可调磁场装置，所述可调磁场装置包括至少三个不同轴的电磁铁，所有电磁铁均连接有调节角度的驱动装置，所有电磁铁之间相互独立，通过改变各个电磁铁的电流和倾斜角，产生不同强度和方向的磁场，它们就可以独立或者共同耦合来改变离子流的密度，进而提高整个区域的刻蚀速率均匀度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213184195 U (45)授权公告日 2021.05.11 (21)申请号 202022399024.2 (22)申请日 2020.10.26 (73)专利权人浙江艾微普科技有限公司