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实用新型公开了一种TFT阵列基板结构,基板分为第一TFT区域和第二TFT区域;第一TFT区域制作第一有源层,第一有源层划分为沟道区域和导体化区域;沟道区域上制作第一栅极绝缘层;第一栅极绝缘层上制作第一金属层;制作隔离层,蚀刻位于第二TFT区域上的所隔离层;蚀刻隔离层,形成两个第一通孔;同时制作第一源极、第一漏极和第二金属层,第一源极、第一漏极通过两个第一通孔与有源层上的导体化区域连接;所第二金属层置于第二TFT区域上。通过TFT阵列基板定义为两个区域,减少第二TFT退火制程H离子扩散,提升第二T
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213212166 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202022089818.9
(22)申请日 2020.09.22
(73)专利权人 福建华佳彩有限公司
知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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