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本实用新型实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、超构透镜、感光芯片和光学胶。超构透镜包括四种超构透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元,第一超构透镜单元与第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三超构透镜单元,与第一超构透镜单元和第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四超构透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于超构透镜。光学胶设置于超构透
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213186257 U
(45)授权公告日 2021.05.11
(21)申请号 202022410002.1 G02B 3/00 (2006.01)
知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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