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本实用新型属于微波领域,涉及一种微波等离子谐振腔,具有以下优点:(1)谐振腔由半球形和箱形金属腔组成,微波从箱形金属腔底部两侧进入后,在半球形腔的凹形内壁和箱形腔的底面之间来回反射,将大部分电磁场集中在箱形腔的中部位置,从而激励起稳定的大面积等离子体,获得较高Q值,提高了沉积薄膜面积及均匀性;(2)将气体入口通道设置于半球形腔的顶部中间且对准沉积台中心,气体导入腔内后,气体由箱形金属腔内中部向四周扩散,并沿着沉积台表面均匀向外扩散,大部分气体留在腔内形成对流。随着等离子激发后气体的消耗,小部分气
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218561604 U
(45)授权公告日 2023.03.03
(21)申请号 202223100852.7
(22)申请日 2022.11.22
(73)专利权人 深圳市恒运昌真空技术有限公司
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