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2023-03-06 发布于四川
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一种物理气相沉积腔体配件装置.pdf

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本实用新型公开了一种物理气相沉积腔体配件装置，包括第一组合腔、第二组合腔、凸柱、固定机构和顶片架；所述第一组合腔顶部的中央位置处设有顶口，所述第一组合腔表面底部的一周设有四组等距的L型插杆，所述第一组合腔的底部固定安装有第二组合腔，所述第二组合腔表面顶部的一周设有四组等距的插管，所述插管的一侧固定安装有固定机构。本实用新型设置了凸柱，第一组合腔和第二组合腔内部的两侧均设有凸柱，凸柱增大第一组合腔和第二组合腔内部两侧的表面积，从而可以提高第一组合腔和第二组合腔内部的附着力，使的第一组合腔和第二组合

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213232469 U (45)授权公告日 2021.05.18 (21)申请号 202022059007.4 (22)申请日 2020.09.18 (73)专利权人盛吉盛（宁波）半导体科技有限公