一种双面曝光机.pdfVIP

下载本文档

2
0
约6.56千字
约 7页
2023-03-06 发布于四川
举报
版权申诉

一种双面曝光机.pdf

1、本文档共7页，其中可免费阅读4页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本实用新型公开了一种双面曝光机，涉及晶闸管生产设备，解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的技术问题。它包括机体，机体内安装有两个相对布置的安装座，安装座之间设有上下布置的两个安装支架，安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上；安装支架上设有光刻板定位支架，光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上；两个安装支架之间设有硅片定位支架，硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间；位于安装支架上方的机体上安装有上曝光灯，位于安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。本实用新型能同时曝光硅

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213240802 U (45)授权公告日 2021.05.18 (21)申请号 202022097634.7 (22)申请日 2020.09.23 (73)专利权人襄阳先泰电子有限公司