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本实用新型涉及高位槽技术领域，具体为一种阳离子蓝X‑BL生产用具有防堵结构的高位槽，包括装置主体，所述装置主体包括外框、反应腔、防护盖和底座，且外框内壁固连有反应腔，所述反应腔顶端中部开设有进料口，且进料口底端中部开设有出料口，所述出料口底端螺纹连接有防护盖，且外框底端固连有底座，所述反应腔内部设置有防堵机构，且防堵机构包括过滤板，所述反应腔内部固连有过滤板，所述过滤板左侧中部固连有第一固定块，且第一固定块插设在外框内壁开设的孔洞中，所述外框内壁开设有第一开槽。本实用新型可以对过滤板上的化学残渣
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213315009 U
(45)授权公告日 2021.06.01
(21)申请号 202021534907.3
(22)申请日 2020.07.29
(73)专利权人 南通市武鑫化工有限公司
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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