一种冷壁法CVD沉积装置.pdfVIP

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2023-03-08 发布于四川
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一种冷壁法CVD沉积装置.pdf

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本实用新型公开了一种冷壁法CVD沉积装置，包括底座、沉积管、马达和弹性块，所述底座的底表面固定安装有沉积箱，沉积箱的顶端内部贯穿安装有沉积管，所述沉积管的内部中间固定安装有轴座，轴座中间设有框架，且框架通过轴杆转动安装在轴座的中间，所述框架的内部开设有嵌口，嵌口的内部一侧开设有第二凹口，嵌口的内部另一侧设有第一凹口，第一凹口开设在抵板的内部。本实用新型在沉积管的内部中间固定安装了一个可翻转的框架，将需要加工的晶片嵌入固定在框架内部，在沉积加工晶片一面后工作人员可控制马达转动框架使其晶片另一面可被

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213327826 U (45)授权公告日 2021.06.01 (21)申请号 202022042738.8 (22)申请日 2020.09.17 (73)专利权人山东沐东真空科技有限公司