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本实用新型公开了用于氢化物气相外延的均匀生长反应器,它包括:石英腔(1);所述石英腔内设有均气环(2),所述均气环的环面上均布有若干通孔(3),所述石英腔的底部开设有两个排气口,所述两个排气口上连通有Y型排气管(4)的两个分管,所述Y型排气管的主管与外界连通。本实用新型的有益效果是石英腔中加装集气环,改善制程气体分布的均匀性;将HVPE的底座单排气口改成对称的双排气口。单尾气管路改成Y型双尾气管路,增大尾气管路的直径,同时双边排气,降低因单边排气造成管路堵塞而触发尾气压力偏高的报警;改善制程气体
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213327930 U
(45)授权公告日 2021.06.01
(21)申请号 202022170723.X
(22)申请日 2020.09.28
(73)专利权人 镓特半导体科技(铜陵)有限公司
知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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