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本实用新型公开了一种光吸收性能好的单晶硅片,包括单晶硅片本体,所述单晶硅片本体的顶部固定连接有防腐蚀层,所述防腐蚀层的顶部固定连接有防水层,所述单晶硅片本体包括P型单晶硅片和N型单晶硅片,所述N型单晶硅片的底部固定连接有金属导电层,所述P型单晶硅片的顶部设置有硅片层,所述硅片层的顶部设置有防反射层,所述防反射层的顶部设置有聚光层。本实用新型通过单晶硅片本体、防腐蚀层、防水层、P型单晶硅片、N型单晶硅片、金属导电层、硅片层、防反射层和聚光层的配合使用,具备光吸收性能好的优点,解决了现有的单晶硅片光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213340389 U
(45)授权公告日 2021.06.01
(21)申请号 202021646519.4
(22)申请日 2020.08.10
(73)专利权人 江西久顺科技有限公司
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知识产权出版社有限责任公司(原名专利文献出版社)成立于1980年8月,由国家知识产权局主管、主办。长期以来, 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作, 经过多年来的积累,已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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