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本申请提供一种改善膜厚均匀性的CVD设备,包括:外壳、顶盖、加热载台、气柜和通气管道,其中,所述顶盖与外壳铰接,所述加热载台设置在外壳内,所述顶盖与外壳构成反应腔体。所述加热载台包括多个通气区域,所述通气区域中设有多个晶圆载盘,每个所述通气区域分别通过通气管道与气柜连接;所述晶圆载盘包括:真空吸盘和环形分流盘,所述真空吸盘设置在所述环形分流盘的圆环内。通过对不同通气区域的反应气体流量进行调整,以及,环形分流盘在晶圆四周流出反应气体调整晶圆四周反应气体分布,能够有效提高膜厚均匀性,并且不需要针对C
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218580052 U
(45)授权公告日 2023.03.07
(21)申请号 202222242897.1
(22)申请日 2022.08.24
(73)专利权人 聚灿光电科技(宿迁)有限公司
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