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本实用新型公开了一种单晶硅片的清洗机,包括底座,所述底座顶部设置有清洗架,所述清洗架中心滑动连接有清洗台,所述清洗台上固定连接有手拉架,所述清洗架上设置有下料门;所述清洗架前端面两侧设置有与清洗台相对应的支撑架,所述清洗台顶部设置有多个定位辅助组件,所述清洗架上设置有清洗组件;本实用新型通过设置的清洗组件,使得对单晶硅片进行清洗时,清洗后的水混杂污渍通过漏水孔进入蓄水箱中心,水中杂质被活性炭吸附板吸附,蓄水箱中心的水重新进入水泵中心进行清洗,实现了水循环,且具备较好的清洗效果。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218591279 U
(45)授权公告日 2023.03.10
(21)申请号 202223027801.6
(22)申请日 2022.11.15
(73)专利权人 济南科盛电子有限公司
地址 25
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