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纳米金刚石薄膜的制备及场电子发射研究
研究者们发现,纳米金刚石薄膜作为一种新型功能材料,具有优异的电子特性,在电子学应用中具有广阔的前景。为此,如何简单有效地制备出具有优异电子性能的纳米金刚石薄膜,以及其电子发射特性的研究是有价值的。
目前国内外学者主要使用自组装、多层镀膜、电化学分解等制备方法制备纳米金刚石薄膜,通过电性能以及结构表征,确定纳米金刚石薄膜的组成模型。通过X射线衍射和透射电子显微镜的联用,对获得的纳米金刚石中碳、氮之间的结构和组成进行了表征。借助电子管测能装置,研究者们发现纳米金刚石薄膜具有良好的电子发射性能,在低压条件下也能达到观测到I-V特性的偏高值。
更多进行纳米金刚石薄膜发射性能研究的学者选用气体放电显微镜对纳米金刚石薄膜的特性进行分析。结果表明,纳米金刚石薄膜的发射行为基本稳定,其发射电流为室温随单位入射能量的增加出现明显的增加,且随着纯度的增加,发射强度也会有明显的提升,为后续有关材料的研究提供了重要依据。
总的来说,研究者对纳米金刚石薄膜的制备研究已经取得了一定的成果,而随着制备技术的不断进步,我们相信设计高性能的纳米金刚石薄膜和明确其电子发射特性的研究工作还有着更大的发展空间。
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