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离子敏场效应晶体管宏模型的建立与仿真
场效应晶体管(Field Effect Transistor, FET)是当今微电子技术中极其重要的一种器件,其结构简单、功耗低、增益高的特性使得它成为大部分集成电路的核心元件。随着CMOS技术的不断发展和提高,理想的FET模型逐渐变得重要,以便更好的确定元件的参数值和特性,妥善设计和有效地模拟元件表现。离子敏场效应晶体管(Ion-Sensitive FET, ISFET)作为一种非常典型的FET模型,其中负载晶体管形成的负反馈会影响其临界电压和伏安特性,使ISFET模型具有诸多优势,不仅用于传感器的制作,而且具有广泛的应用,如微波通信、气体传感器应用等。
本文从建立离子敏场效应晶体管宏模型的角度研究ISFET。首先,对ISFET的基本结构进行描述,表明ISFET由栅极、源极、漏极三个主要部分组成,其特性受晶体面积大小、栅极-源极间隙和漏极-源极间隙三个参数影响。然后考虑FET二极管及其表达方程,并利用归纳法结合查表获得参数值,建立ISFET的宏模型。接下来,对建立的宏模型进行仿真,并与实际测量的值进行对比,以衡量模型的真实性与准确性。最后,通过关键参数变化,分析ISFET的特性曲线,更好地理解它的工作原理。
综上所述,离子敏场效应晶体管宏模型拥有灵活的表达能力,可以用来更为准确的模拟栅极电压、漏极电压的特性曲线,以及晶体管的伏安特性,更可以为元件的设计提供服务。因此,建立离子敏场效应晶体管宏模型和进行仿真研究的重要性不言而喻。
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