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本实用新型涉及半导体集成技术领域，尤其涉及一种原子层沉积装置。所述原子层沉积装置包括作业载台和箱体，作业载台为回转体，作业载台的侧壁上设置有至少两个独立设置的载片腔和用于间隔载片腔的间隔部，载片腔上设置有用于向载片腔内通气的气孔；箱体包括回转体容置部和至少两个独立设置在回转体容置部外侧的供源腔，回转体容置部套设在作业载台外；作业载台能够转动以使载片腔与供源腔相连通便于供源腔向载片腔供给前驱体，或使间隔部遮盖供源腔的开口以隔断供源腔和载片腔便于对载片腔内的基片进行吹扫操作，从而将吹扫操作区和前驱体
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213596393 U
(45)授权公告日 2021.07.02
(21)申请号 202022358707.3 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(22)申请日 2020
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