一种半导体晶圆生产用清洗装置.pdfVIP

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2023-03-16 发布于北京
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一种半导体晶圆生产用清洗装置.pdf

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本实用新型公开了一种半导体晶圆生产用清洗装置，包括水箱、滑套、顶架和滤板，所述水箱外部一侧的底端设置有排水阀，且水箱内部顶端的两侧皆固定连接有放置板，所述水箱的顶端设置有顶架，且顶架底端的中间位置固定连接有连接箱，所述顶架底端的两侧皆滑动连接有滑套，所述水箱外部一侧的中间位置安装有控制面板。本实用新型通过在连接齿轮的一侧活动连接的半齿轮，电机可以带动连接齿轮转动，则连接齿轮可以带动半齿轮转动，使半齿轮可以带动双向喷头进行转动，使其喷水位置得到调节，当连接齿轮与半齿轮的无齿部分接触时，则双向喷头停

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213601842 U (45)授权公告日 2021.07.02 (21)申请号 202023205836.5 (22)申请日 2020.12.25 (73)专利权人黑曼巴半导体（无锡）有限公司