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本公开的实施例涉及针对静电放电保护的器件。该针对静电放电保护的器件在第一导电类型形成在半导体衬底中,半导体衬底涂覆有第二导电类型的半导体层。第二导电类型的掩埋区域被定位在半导体衬底与半导体层之间的界面处。第一导电类型的第一阱和第二阱形成在半导体层中,并且第二导电类型的区域形成在第二阱中。第二导电类型的停止沟道区域在半导体层中提供,以将第一阱与第二阱横向地分离,其中在该停止沟道区域与第一阱和第二阱中的任一个阱之间不存在接触。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213635987 U
(45)授权公告日 2021.07.06
(21)申请号 202020478482.2
(22)申请日 2020.04.03
(30)优先权数据
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