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一种进料装置和镀膜设备。该进料装置适于向反应腔室输入化学单体气体,其中该反应腔室内设有用于放置待镀膜工件的支架,以利用该化学单体气体的聚合在该待镀膜工件的表面形成聚合物膜层。该进料装置包括:至少一第一进料管,其中该至少一第一进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁下部,用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁下部输入至该反应腔室的内部;和至少一第二进料管,其中该至少一第二进料管适于被可连通地设置于该反应腔室的侧壁上部,用于将该化学单体气体从该反应腔室的该侧壁上部输入至该反应腔室的内部。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213680865 U
(45)授权公告日 2021.07.13
(21)申请号 202022280144.0
(22)申请日 2020.10.13
(73)专利权人 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公
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