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本实用新型公开了一种气相沉积半导体设备内多孔部件的清洗装置,包括固定盖板和清洗固定治具,所述固定盖板为圆环结构;所述清洗固定治具包括固定盘,该固定盘中部设有冲洗孔,所述冲洗孔下面连接有转接头,所述固定盘上部设有一圈凸棱,该凸棱顶部设有容置槽,所述容置槽中安装有密封圈,所述固定盘底部四周设有支脚;所述固定盖板、清洗固定治具位于药液储存槽中。本申请清洗装置结构简单,省时省力,不需要人为操作;通过液体流量计来检测药液流量,然后根据实际使用情况气压显示调节阀调节压缩空气压力大小,进而来控制药液穿过多孔部
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213996980 U
(45)授权公告日 2021.08.20
(21)申请号 202022821134.3
(22)申请日 2020.11.30
(73)专利权人 富乐德科技发展(大连)有限公司
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