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X射线衍射研究CVD金刚石厚膜的残余应力
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第一章 绪论
1.1 金刚石膜的发展概况
CVD金刚石膜被称之2l世纪的新材料,其优秀的性能和广泛的军事应用一直受到世界各国的关注,膜状金刚石既有颗粒状金刚石相同的性能,又克服了天然金刚石和人造金刚石尺寸大小的限制,使得金刚石很多优异的性能得到充分的应用。自从20世纪80年代日本学者首次利用化学气相沉积合成金刚石膜来,CVD金刚石膜技术得到迅速发展,从90年代,化学气相沉积技术已成为制备金刚石膜的最有效的方法。自从CVD金刚石膜的出现,为金刚石的应用提供新的途径。
1.2 化学气相沉积技术发展现状
1.2.1 镀膜技术发展
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