X射线衍射研究CVD金刚石厚膜的残余应力.doc

X射线衍射研究CVD金刚石厚膜的残余应力.doc

  1. 1、本文档共32页,其中可免费阅读10页,需付费200金币后方可阅读剩余内容。
  2. 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
  3. 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  4. 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
X射线衍射研究CVD金刚石厚膜的残余应力 PAGE 3 第一章 绪论 1.1 金刚石膜的发展概况 CVD金刚石膜被称之2l世纪的新材料,其优秀的性能和广泛的军事应用一直受到世界各国的关注,膜状金刚石既有颗粒状金刚石相同的性能,又克服了天然金刚石和人造金刚石尺寸大小的限制,使得金刚石很多优异的性能得到充分的应用。自从20世纪80年代日本学者首次利用化学气相沉积合成金刚石膜来,CVD金刚石膜技术得到迅速发展,从90年代,化学气相沉积技术已成为制备金刚石膜的最有效的方法。自从CVD金刚石膜的出现,为金刚石的应用提供新的途径。 1.2 化学气相沉积技术发展现状 1.2.1 镀膜技术发展 此课

文档评论(0)

***** + 关注
实名认证
内容提供者

乐于分享,有偿帮助。

版权声明书
用户编号:8070007123000004

1亿VIP精品文档

相关文档