一种原子层沉积设备.pdfVIP

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2023-04-03 发布于四川
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一种原子层沉积设备.pdf

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本实用新型涉及一种原子层沉积设备，包括主控制器、反应腔体、通气调节回路以及管路疏通气路，所述通气调节回路包括真空抽气装置、气压监测装置、第一节流阀以及多个源瓶，第一节流阀的进气端与氮气源连通，在反应腔体上设置主通气管，气压监测装置设置在主通气管上，每个源瓶分别通过单独设置的支通气管与主通气管相连通，在每个支通气管上分别设置源瓶阀，第一节流阀通过设置的氮气管路与主通气管连通；所述管路疏通气路包括压缩气源和第二节流阀，第二节流阀通过设置的压缩气管分别与各个支通气管相连通，在压缩气管上设置压缩气阀。本

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214060636 U (45)授权公告日 2021.08.27 (21)申请号 202023325758.2 (22)申请日 2020.12.31 (73)专利权人杭州纤纳光电科技有限公司