用于化学机械抛光的承载头和用于化学机械抛光的系统.pdfVIP

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2023-04-05 发布于北京
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一种用于化学机械抛光的承载头，包含：基座组件连接至所述基座组件的膜组件。所述膜组件包含：膜支撑件、固定至所述膜支撑件的内膜、和固定至所述膜支撑件并且在所述内膜下方延伸的外膜，其中所述内膜在膜的上表面与所述膜支撑件之间形成多个可单独加压的内部腔室，所述外膜具有内表面和外表面，其中所述外膜在所述外膜的所述内表面与所述内膜的下表面之间界定下部可加压腔室，其中所述内表面被定位成在所述多个腔室中的一个或多个腔室被加压时与所述内膜的下表面接触，并且其中所述外表面被配置为接触基板。本文还提供了一种用于化学机械

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214135511 U (45)授权公告日 2021.09.07 (21)申请号 202021775073.5 B24B 37/30 (2012.01)