浅谈二氧化硅消光粉以及涂料消光方法.pptxVIP

浅谈二氧化硅消光粉以及涂料消光方法 1、消光基本原理亮光漆膜漆膜表面微小的凹凸可使光线形成漫反射消光法的基本原理是，当光束穿过以含有颗粒的介质时，由于受到颗粒的散射和吸收，使得穿过介质后的透射光强受到衰减，其衰减程度与颗粒的大小和数量有关。与散射光能颗粒测量方法显著不同的是，消光法测量时接收的不是颗粒的散射光，而是非散射光。即光源光强减去散射光能，所以光强较强。早期的研究者认为，光能的衰减是由于颗粒的“遮挡”作用，于是提出一个简单的假设，即遮挡光能与粒径大小成比例关系，所以有时也称遮光法。 2、消光方式的选择体系的不相容高填料蜡粉有机消光剂：PMMA-PS复合微粒无机消光剂结合涂膜表面光泽产生的机理和影响光泽的因素，人们认为消光就是采用各种手段，破坏涂膜的光滑性，增大涂膜的表面微观粗糙度，降低涂膜表面对光线的反射。可以分为物理消光和化学消光两种方式。物理消光的原理为：加入消光剂，使涂料在成膜过程，表面产生凹凸不平，增大对光的散射和减少反射。化学消光是靠在涂料中引入一些例如聚丙烯接枝物质类能吸收光线的结构或基团来获得低光泽。 3、无机消光剂白炭黑，气相二氧化硅，沉淀法二氧化硅；表面处理及未表面处理，亲疏水；具有更大的比表面积与特殊的晶型结构；微观结构是无定形或呈玻璃态，与天然二氧化硅相比，白炭黑的二氧化硅纯度高、惰性大、耐紫外光，折光指数为1.46。 4、气相法白炭黑气相法白炭黑：最早1941年DEGUSSA所开发，化学气相沉积法，是由四氯化硅蒸气在氢氧气氛下高温水解形成气凝胶，通过聚集器聚集成较大颗粒后进行收集，其反应式如下：SiCl4+2H2+O2-------SiO2+4HCl 1800℃ 5、沉淀法白炭黑用酸（通常使用硫酸）对硅酸钠溶液（水玻璃）进行中和，过滤去除副产物，对剩下的白炭黑进行干燥，疏松，絮状结构；此法最大比表面可达500m2/g；应用性能由沉淀阶段（成份、配比、时间、温度和浓度）中形成的微观粒子结构决定。 6、凝胶法白炭黑原料工艺路线与沉淀法接近，不同在于酸碱反应经过溶胶-凝胶过程，但产品特性与气相法较为类似。公司改性剂GED4，HMDZ, DMDCCabotHMDZDow CorningHMDZ，PDMGrace直链醇DegussaD3，D4，DMDC，烷氧基硅氧烷WackerD3，D4，PDMSRhodiaD3，D4，MM印尼DarisaDUSIL 7、市场常用型号瓦克（WACKER）：N20、T40、H15、H13L、H20、H17、H18、H2000；德固赛（DEGUSSA）亲水性：A200、A300、A380、TT；德固赛（DEGUSSA）疏水性：R972、R974、R202、R812、R812S、R106、R8200；CABOT（卡博特）：M-5、EH-5、TS-720、TS-610 ；?TOKUYAMA（德山）：QS-102、QS-20、QS-40、DM-10；吉必盛气相二氧化硅：H-200、H-150；罗地亚 Zeosil?和 Tixosil?，德固赛 OK、HK、德山FM等。 8、消光度的影响因素(1)消光粉的平均粒径及分布;(2)孔隙率；(3)堆积密度;(4) 表面处理;(5)使用的方法;(6)干燥条件;(7)涂层厚度;(8)混合体系。 9、一般消光规律一般来说, 消光粉的平均粒径越大，消光效率就会越高；如有大量“粗”“细”粒子，即分布不均，造成增粘及过度粗糙。 10、一般消光规律一般来说, 消光粉的平均粒径越大，消光效率就会越高；如有大量“粗”“细”粒子，即分布不均，造成增粘及过度粗糙；消光粉的孔隙率越高，单位重量粉料含量就会越高；光泽的降低是粒子的粒径效应；同等粒径，高孔隙率效果效果越好；堆积密度与消光性能无直接联系；颗粒小，堆积密度小，孔隙率大，比表面大，吸油量相应增大；吸油量大一般消光性能好些；表面处理的消光性能更好。 11、常见消光粉型号-红外解析11095 cm-1 强而宽的吸收带是Si-O-Si 反对称伸缩振动峰， 806 cm-1、476 cm-1 处的峰为Si-O 键对称伸缩振动峰，3442 cm-1 处的宽峰是结构水-OH 反对称伸缩振动峰，1636 cm-1附近是水的H-O-H 弯曲振动峰，955 cm-1 处的峰属于Si-OH 的弯曲振动吸收峰。 12、常见消光粉型号-红外解析2 13、光固化体系体积收缩对光泽的影响DPGDA%TMPTA%光泽（60°）/%2554620102615152010201852547DPGDA与TMPTA含量对涂膜光泽的影响名称粘度cp收缩率%TPGDA1518DPGDA1016HDDA819TMPTA10025NPGDA1012HEMA78活性稀释剂相对分子质量收缩率/%MMA10022.2HEA11612.2HPA1301