用于纳米涂层的沉积装置.pdfVIP

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2023-04-07 发布于北京
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本实用新型公开的属于纳米涂层技术领域，具体为用于纳米涂层的沉积装置，包括底座和真空室，所述底座顶部安装有安装架，所述安装架顶部安装有真空室，所述底座左侧顶部安装有承载架，所述承载架左侧安装有电机，所述电机输出端安装有公转盘，所述公转盘左侧设置有固定座，所述固定座中间设置有齿轮盘，通过真空壁安装一对Nb靶材和一对阳极层离子源，工件在真空室内公转并自转，确保涂层均匀性，控制开启Nb靶和离子源的时间和次数，可控制涂层单层膜厚度和复合涂层层数及总厚度，该涂层具有内应力小、涂层硬度高、摩擦系数低以下的优点

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215440665 U (45)授权公告日 2022.01.07 (21)申请号 202120949767.4 (22)申请日 2021.05.06 (73)专利权人江