一种薄膜生长设备.pdfVIP

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2023-04-20 发布于北京
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一种薄膜生长设备.pdf

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本实用新型提供一种薄膜生长设备，薄膜生长设备包括反应腔室，反应腔室内具有一个或多个出气结构，出气结构用于向反应腔室内输送反应气体，出气结构具有多个出气口，每个出气口对应一个出气方向，以便多个出气口对应不同的出气方向，这样就能够将反应气体通过多个方向上的出气口均匀的输送至反应腔室，反应气体在反应腔室内的密度较为均匀，最终在待处理衬底上形成的膜层的厚度的均匀性较高。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215856318 U (45)授权公告日 2022.02.18 (21)申请号 202122372726.6 (22)申请日 2021.09.27 (73)专利权人长江存储科技有限责任公司