一种用于半导体介质刻蚀机的气体分配加热器组件.pdfVIP

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2023-04-20 发布于北京
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一种用于半导体介质刻蚀机的气体分配加热器组件.pdf

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本实用新型公开了一种用于半导体介质刻蚀机的气体分配加热器组件，涉及半导体介质领域，针对现有的技术当中防尘效果不高，不能够及时对装置上的过滤网进行更换，降低了气体加热脱水的效率问题，现提出如下方案，其包括壳体，所述壳体圆周侧壁底端固定安装有支撑架，且所述支撑架底端固定安装有多个结构相同的支撑腿，所述壳体一侧固定安装有控制器，且所述壳体圆周内壁固定安装有加热铜管，且所述加热铜管与控制器相连接。本实用新型结构新颖，且该装置能够对气体进行气化处理，将气化后的液体进行过滤脱水处理，使用后能够及时对过滤网进

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215896305 U (45)授权公告日 2022.02.22 (21)申请号 202122032867.3 (22)申请日 2021.08.26 (73)专利权人无锡圆诺电子科技有限公司