纳米压印胶层的制作方法和光学元件.pdfVIP

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2023-04-21 发布于四川
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纳米压印胶层的制作方法和光学元件.pdf

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本发明提供了一种纳米压印胶层的制作方法和光学元件，纳米压印胶层的制作方法包括：步骤S10：在基底上涂布胶水并形成厚度均匀的胶层；步骤S20：将掩模板放置在胶层的上方形成中间件；步骤S30：将中间件放入干法刻蚀设备内进行刻蚀形成厚度不均匀的刻蚀件；步骤S40：若需要刻蚀的区域的数量N大于1，则将掩模板移动到预设位置后重复N‑1次步骤S20至步骤S30后执行步骤S50；若需要刻蚀的区域的数量N等于1，则执行步骤S50；步骤S50：将刻蚀件取出，并将掩模板与胶层分离，并对胶层压印。本发明解决了现有技术

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113900354 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202111199916.0 (22)申请日 2021.10.14 (71)申请人宁波舜宇奥来技术有限公司