膜形成用组合物.pdfVIP

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2023-04-21 发布于北京
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本发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其特征在于，其包含选自水解性硅烷化合物、其水解物和其水解缩合物中的至少1种，以及溶剂，上述水解性硅烷化合物包含分子内具有氰基的下述式(1)所示的水解性硅烷。(在式(1)中，R1为与硅原子结合的基团，并且表示包含氰基的有机基，R2为通过Si‑C键而与硅原子结合的基团，并且彼此独立地表示可以被取代的烷基等，R3为与硅原子结合的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113891906 A (43)申请公布日 2022.01.04 (21)申请号 202080039710.9 (74)专利代理机构北京市中咨律师事务所