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本申请公开一种半导体清洗设备和清洁卡盘的方法,半导体清洗设备包括工艺腔室和设置在工艺腔室内的卡盘,所述半导体清洗设备还包括抽吸机构,所述抽吸机构包括抽吸管路,所述抽吸管路配置为与抽气设备连通,所述抽吸管路的一部分可移动地安装在所述工艺腔室内,且所述抽吸管路的抽吸口可移动至所述卡盘的上方,以通过所述抽吸机构抽吸所述卡盘上的杂质。上述技术方案公开的半导体清洗设备基本能够解决目前卡盘上附着的污染物可能会粘附到晶圆的表面,从而污染晶圆,对晶圆的良品率产生较大不利影响的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113877890 A
(43)申请公布日 2022.01.04
(21)申请号 202111127521.X H01L 21/67 (2006.01)
(22)申请日 2
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