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本发明提供了一种半导体工艺设备中的遮蔽装置,用于遮蔽所述半导体工艺设备工艺腔室中用于承载晶圆的基座,包括:遮蔽盘和用于承载所述遮蔽盘的托盘,其中,所述遮蔽盘包括:遮蔽盘本体和设置在所述遮蔽盘本体上的突出部,所述突出部位于所述遮蔽盘本体朝向所述托盘的一侧,所述托盘上设置有多个校正机构,多个所述校正机构沿所述突出部的周向分布,多个所述校正机构的用于在所述遮蔽盘落至所述托盘的过程中,在所述遮蔽盘重力的作用下夹持所述突出部,并推动所述突出部沿所述托盘的表面移动至目标位置。本发明实施例还提供了一种半导体工
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113897588 A
(43)申请公布日 2022.01.07
(21)申请号 202111123228.6
(22)申请日 2021.09.24
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
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