边缘环和蚀刻装置.pdfVIP

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2023-04-21 发布于北京
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边缘环和蚀刻装置.pdf

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本发明提供边缘环和蚀刻装置。提供能够抑制边缘环的内周部的消耗的边缘环。一种边缘环，其围绕在被等离子体处理腔室内的基板支承部支承着的被蚀刻物的外周，其中，所述边缘环具有自外周部朝向内周部去而变低的倾斜面，将位于所述倾斜面上的比距离所述边缘环的最内周和最外周为等距离的中间线靠内周部的地点Xa处的等离子体处理前的所述边缘环的厚度设为T1，将位于所述倾斜面上的比所述中间线靠外周的地点Xb处的等离子体处理前的所述边缘环的厚度设为T2，将所述地点Xa处的等离子体处理后的所述边缘环的厚度设为T3，将所述地点X

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113903647 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202110743919.X (22)申请日 2021.07.01 (30)优先权数据 2021-0893