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本发明公开了一种波导边缘集成耦合器及其制备方法。耦合器结构包括PIC器件平台、SOI波导结构和硅微透镜;光线在PIC器件平台经SOI波导结构传输并出射,硅微透镜对光束进行模斑转换,改变光线轨迹并限制光线入射纤芯的角度,然后光线经空间传播后入射单模光纤纤芯。耦合器制备方法分为四个步骤,首先,设计并仿真SOI结构,得到波导出射的模式特性;其次,对透镜参数进行设计;接着,将耦合器与单模光纤进行联合仿真,得到理论耦合效率;最后,根据设计完成耦合结构制作,经实际的有源测试结果完成优化,确定最终参数和耦合方
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113900181 A
(43)申请公布日 2022.01.07
(21)申请号 202111105651.3
(22)申请日 2021.09.22
(71)申请人 南京
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